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国内首个具有完整硅光工艺流片能力的硅光平台

2021-09-30

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1be1c061de95675516c08d6fe7a2ff87.jpg硅光技术是利用现有CMOS集成电路上的投资、设施、经验以及技术来设计、制造、封装光器件和光电集成电路，从而在成本、功耗、集成度上突破现有光电技术的局限性，以满足现代高速发展的信息产业对光电子技术的需求。硅光技术体现了微电子技术与光电子技术融合发展的趋势，不仅在现阶段的光通信和数据中心上有迫切的应用需求，还在、微波光子、激光雷达、生物传感、光量子计算等领域有着广阔的应用前景。



近年来，硅光技术已逐渐进入功能集成芯片的开发和应用阶段，对规范的、能提供完整工艺流程的制造平台提出了更高的要求。虽然硅光加工是利用成熟CMOS技术和设施，但是一个成熟的CMOS平台并不能无缝地转化为硅光子平台，因为集成光路和集成电路在器件类型和图形特点上有很大的差异，导致它们的制造工艺存在差异，一系列针对硅光的工艺模块需要开发，成熟的硅光平台还需要建立丰富的器件库和用于指导客户进行规范设计的PDK。

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▲IMECAS硅光平台发展历程
中科院微电子所（IMECAS）基于8英寸CMOS工艺线开发了成套硅光技术，包括硅光流片工艺库和基础器件库，制定了硅光器件和芯片的设计规则和工艺规范，形成了硅光PDK，并于2017年5月正式发布了国内首个具有完整硅光工艺流片能力的硅光平台。 



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