基于普通体硅衬底进行 LPCVD 和 PECVD 氮化硅 PDK 器件库开发,研发 出了覆盖 100-800nm 厚度的超低损耗 PESIN 工艺,部分器件指标如下
微电子所硅光平台 PDK 已实现与主流光子集成设计软件集成。用户可 以在软件中调用 IMECAS 工具包,利用平台 PDK 提供的器件库,便捷、灵活 地进行符合平台规范的硅光芯片设计。
平台配置了商用级 8/12 英寸硅光晶圆测试系统,该解决方案基于成 熟可靠的 12 寸探针台和纳米级精密定位组件,搭建起高效且兼容性高的 光电混合测试系统。
面向后摩尔时代微电子与光电子的发展需求,中国科学院微电子所基于 8 英寸 CMOS 工艺线开发国内首个具有完整硅光工艺流片能力的 8 英寸硅光 平台。
国内首个 8 英寸硅光平台，2017 年 5 月正式发布，专注于硅基光子集成芯片制造工艺， 产业化公司运营服务，专业高效的服务流程,已累计服务客户 300 余家
